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無油式真空泵

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真空科學(xué)與技術(shù)的一些前沿課題

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真空科學(xué)與技術(shù)的一些前沿課題

發(fā)布日期:2020-10-31 14:18 來源:http://mmy520.com 點(diǎn)擊:

真空產(chǎn)品生產(chǎn)廠家、真空行業(yè)的科技工作者每時每刻都應(yīng)該掌握自己工作領(lǐng)域內(nèi)最近、最新的學(xué)術(shù)動態(tài),研究自己工作范圍內(nèi)的前沿課題,以便給自己定位,確定自己的對策,找出自己前進(jìn)的方向,積極參加市場競爭,不斷改革創(chuàng)新,才能立于不敗之地。尤其是我國加入WTO之后,真空科技工作者的目光應(yīng)該更遠(yuǎn)大,獲取科技信息就顯得更為重要,它是企業(yè)存在的保障,是科技工作者的生命線。

 

1、真空泵

 

真空泵的種類很多,可按下表進(jìn)行分類。

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真空泵的前沿課題主要有:①號稱21世紀(jì)綠色真空泵的各種無油泵(干泵)的研制;②噴射泵、擴(kuò)散泵的理論研究與設(shè)計(jì)計(jì)算;③探索創(chuàng)新泵的工作原理,研制新型泵。

 

2、真空計(jì)量

 

  真空計(jì)量目前研究的主要內(nèi)容有:

 

  ①真空度(全壓力)測量與校準(zhǔn);

  ②真空質(zhì)譜分析,分壓力的測量與校準(zhǔn);

 ?、蹥怏w微流量(漏率)的測量與校準(zhǔn);

  ④材料放氣率的測量;

 ?、菡婵毡贸樗贉y量。

 

真空計(jì)量研究的前沿課題可歸納為:

 

 ?、傺芯糠瞧胶鈶B(tài)分子流理論,非平衡態(tài)分子流校準(zhǔn)系統(tǒng),超音速分子流校準(zhǔn)系統(tǒng),為空間真空測量和校準(zhǔn)解決難題;

 ?、谘芯课⑿÷饴蕼y量、校準(zhǔn)技術(shù);

 ?、垩芯拷鉀Q極高真空的測量、校準(zhǔn)問題,尋找新的測量理論;

  ④研究材料微量放氣率測量與放氣成分分析技術(shù)

 ?、菅芯拷鉀Q擴(kuò)散泵返油率的測量問題,尋找新的測量方法。

 

3、真空鍍膜

 

  真空鍍膜是真空科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域中最活躍的一門應(yīng)用技術(shù),它涉及到鍍膜設(shè)備、工藝、膜材、靶材等諸多方面,薄膜的種類很多,這里只能簡單論述其中的一部分。

 

3.1、硬質(zhì)薄膜

 

  自然界中金剛石最硬,立方氮化硼第二,碳化硼第三。

 

 ?、俳饎偸?CVD法生產(chǎn)): 熱絲CVD法金剛石膜沉積速率可達(dá) 2.5μm/h,HV40~50GPa;

 ?、贐4C 碳化硼:用磁控濺射法生產(chǎn),高溫?zé)岱€(wěn)定性好,1100℃以上,它是最硬材料,HV50.4gPa;

 ?、蹚?fù)合膜:TiN-第1代;TiCN、TiAlN--第二代; 第三代是多組元復(fù)合膜和多層膜體系;TiN/TiCN、TiN/NbN、TiN/TiAlN、TiN/CrN、TaN/NbN(氮化鉭/氮化鈮),HV55.6GPa,發(fā)展成多層納米梯度膜- TiAl、TiAl1、TiAl2、ZrN(氮化鋯)。發(fā)展方向:提高膜的韌性、耐磨性、耐熱性、耐蝕性。

 

3.2、金剛石涂層刀具

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研究方向:①提高金剛石涂層與基體之間附著力,設(shè)計(jì)中間過渡層,開發(fā)多涂層刀具; ②增大沉積面積,提高生長速率; ③研究PVD法金剛石涂層理論和工藝。

 

3.3、光、電、 磁各種功能膜

 

  這些功能膜種類繁多,性能各異,這里僅舉部分例證。

 

 ?、侔l(fā)光薄膜:Y2O3:Eu(尿素D溶液法)Eu(射頻濺射法);

  ②冷光膜- 可見光區(qū)高反射,紅外光區(qū)高透射,實(shí)現(xiàn)冷光照射,達(dá)到保護(hù)被照物目的;

 ?、塾袡C(jī)光電薄膜:金屬酞菁膜:CuPc-PbPc;CuPc/ZnS; 酞菁氧鈦具有極高光敏系數(shù);

  ④光電功能復(fù)合膜- Ag-Au-SiO2,Ag-BaO,Ag-SiO2,Ag-MgF2,其中Ag-MgF2納米金屬陶瓷薄膜具有光吸收特性,Ag-BaO具有光電發(fā)射特性;

 ?、萃该鲗?dǎo)電膜:ITO(In2O3:Sn),ZAO(ZnO:Al),IMO(In2O3:Mo);

 ?、薰庵伦兩∧ぃ?8烷基取代螺吡喃薄膜(SP-18),在紫外光照下變色,在可見光照下恢復(fù)無色,可用于光信息存儲、光控開關(guān)等;

 ?、叽殴庥涗洷∧ぃ篜bFeCo(鉛鐵鈷);

 ?、喑笠?guī)模集成電路(VLSI): 在Si基片上濺射Cu或Al,實(shí)現(xiàn)多層布線;

  ⑨半導(dǎo)體膜:SiC、ZnO;

 ?、馄渌怆姶诺忍匦怨δ苣ぃ?/span>

 

  LiF、CaF2用于平面型場發(fā)射顯示器;

  Fe/Cr多層膜有巨磁電阻(GMR) ;

  Fe=SiO2膜具有隧道磁電阻效應(yīng)(TMR);

  TiO2膜具有優(yōu)良的介電、壓電、氣敏和光催化功能;

  Cu-SCN-Al(有機(jī)絡(luò)和物)有極性記憶效應(yīng);

  三乙胺- 四氰-P-醌二甲烷(TEA(TCNQ)2)單晶是一種可以用來進(jìn)行高密度信息存儲的有機(jī)復(fù)合材料;

  YBCO屬高溫超導(dǎo)(HTS)膜。

 

3.4、裝飾膜

 

  研究方向:①對薄膜材料的研究正向復(fù)合化、 多種類、高性能、新工藝方向發(fā)展②研究復(fù)合膜的設(shè)計(jì)、性能檢測、制備方法; ③研究薄膜應(yīng)力( 牢固度) ;④研究大面積靶材制作技術(shù),提高靶材利用率。

 

3.5、前沿課題

 

 ?、侔l(fā)現(xiàn)具有新特性的新的膜層材料;

 

 ?、谠O(shè)計(jì)具有特殊功能的新的膜系(復(fù)合膜);

 

 ?、郯l(fā)展高科技產(chǎn)業(yè),例如集成電路產(chǎn)業(yè),信息存儲產(chǎn)業(yè),平面顯示器產(chǎn)業(yè),包括液晶顯示器(LCD),等離子體顯示器(PDP), 場致發(fā)射顯示器(EL);

 

  ④深入膜層結(jié)構(gòu)與特性關(guān)系等理論研究。



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